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線掃描測厚儀離線式 Otsuka大冢

是一種可以方便地離線檢測面內膜厚不均勻性的設備，用于膜的研發和質量控制的抽檢。可以高速且高精度地測量整個表面。
線掃描測厚儀在線式 Otsuka大冢

它是一種可以在薄膜生產現場在線測量薄膜厚度的設備。通過將開創的光譜干涉技術與新開發的高精度膜厚計算處理技術相結合，可以以至少0.01的測量間隔測量寬度為500mm（使用一臺時）的膜厚秒。
日本大冢多通道分光光譜儀MCPD-6800

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日本大冢多通道分光光譜儀MCPD-9800

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日本大冢嵌入式膜厚儀FE-5000S

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日本大冢嵌入式膜厚儀FE-5000

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日本大冢膜厚量測儀FE-300

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日本大冢超高速分光干渉式膜厚儀

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日本大冢超高速分光干渉式膜厚儀

日本大冢超高速分光干渉式膜厚儀SF-3/1300 日本大冢超高速分光干渉式膜厚儀SF-3/1300 日本大冢超高速分光干渉式膜厚儀SF-3/1300
日本大冢超高速分光干渉式膜厚儀

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日本大冢超高速分光干渉式膜厚儀

日本大冢超高速分光干渉式膜厚儀SF-3/200 日本大冢超高速分光干渉式膜厚儀SF-3/200 日本大冢超高速分光干渉式膜厚儀SF-3/200
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