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UV曝光裝置
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紫外可見光光度計(jì)
塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司上海代理OTSUKA大塚無損非接觸膜厚儀FE-300薄膜厚度計(jì)，通過操作簡單的高精度光學(xué)干涉測量實(shí)現(xiàn)薄膜厚度測量。
OTSUKA大塚FE-300特長
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支持從薄膜到厚膜的各種膜厚
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使用反射光譜的薄膜厚度分析
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實(shí)現(xiàn)非接觸、非破壞的***測量，同時(shí)緊湊且價(jià)格低廉
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簡單的條件設(shè)置和測量操作！任何人都可以輕松測量薄膜厚度
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可以通過峰谷法、頻率分析法、非線性***小二乘法、優(yōu)化法等進(jìn)行多種薄膜厚度測量。
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通過非線性***小二乘膜厚分析算法可以進(jìn)行光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率，k：消光計(jì)數(shù)）。
測量項(xiàng)目
反射率測量
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膜厚分析（10層）
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光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率，k：消光計(jì)數(shù)）
測量對象
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功能膜、塑料
透明導(dǎo)電膜（ITO、銀納米線）、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合劑、粘合劑、保護(hù)膜、硬涂層、防指紋， ETC。 -
半導(dǎo)體
化合物半導(dǎo)體、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、藍(lán)寶石等 -
表面處理
DLC涂層、防銹劑、防霧劑等 -
光學(xué)材料
濾光片、AR涂層等 -
FPD
LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有機(jī)膜、灌封膠）等 -
其他
硬盤驅(qū)動器、磁帶、建筑材料等。
測量原理
大冢電子使用光學(xué)干涉儀和我們自己的***分光光度計(jì)，實(shí)現(xiàn)了非接觸、無損、高速和***的薄膜厚度測量。光學(xué)干涉法是一種利用OTSUKA大塚FE-300分光光度計(jì)的光學(xué)系統(tǒng)獲得的反射率來確定光學(xué)膜厚的方法。以涂在金屬基材上的薄膜為例，如圖1所示，從目標(biāo)樣品上方入射的光被薄膜（R1）表面反射。此外，通過薄膜的光在基板（金屬）和薄膜界面（R2）處反射。測量此時(shí)由于光程差引起的相移引起的光學(xué)干涉現(xiàn)象，并根據(jù)得到的反射光譜和折射率計(jì)算膜厚的方法稱為光學(xué)干涉法。分析方法有四種：峰谷法、頻率分析法、非線性***小二乘法和優(yōu)化法。
2.如有必要,請您留下您的詳細(xì)聯(lián)系方式!
