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產品詳情
簡單介紹：
●12英寸~56張/時的吞吐量
●采用SiC托盤的重金屬污染對策
詳情介紹：
特點
它是傳統 AMAX 系列的*大直徑 12 英寸晶圓處理設備。
A63 型分散頭
中的 SiH 經過優化，可在低溫常壓下更有效地進行熱化學反應4, PH3, B2H6和 O2分散后混合和表面反應的后混合方法，
提供優異的薄膜厚度均勻性和雜質濃度均勻性。
SiC 托盤的采用使重金屬污染不難發生。 此外，由于熱量，工藝性能
穩定，老化較少。
標準配備托盤自動更換功能，可縮短操作員的**性和維護時間。
此外，通過采用自動提升頭底座的機制，可以輕松進行
清潔。
性能
| 薄膜厚度均勻性 | ≦±3.0% | |||||||||||||||||
| 支持的晶圓尺寸 | 12 英寸 | |||||||||||||||||
| 氣體種類 | SiH4, O2, PH3, B2H6, N2 | |||||||||||||||||
| 沉積溫度 | 350～430℃ | |||||||||||||||||
| 生產力 | ~56張/小時 | |||||||||||||||||
主要規格
| 設備尺寸 | 2165mm(W) x 4788mm(D) x 2250mm(H) | |||||||||||||||||
| 加熱機構 | 電阻加熱 | |||||||||||||||||
| 卸載 | 機器人CtoC輸送 | |||||||||||||||||
|
分散頭 （氣體噴嘴） |
A63 頭（標準 3 頭） | |||||||||||||||||
天津代理AMAYA天谷制作所12 英寸連續常壓CVD設備AMAX1200
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