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產品詳情
簡單介紹：
代理Otsuka大塚電子橢圓偏振光測量儀FE-300 多功能橢偏儀 橢偏儀系統 橢圓偏振光測量儀
詳情介紹：
產品信息
特點
- 支持從薄膜到厚膜的廣泛薄膜厚度
- 使用反射光譜進行薄膜厚度分析
- 緊湊、低成本、非接觸式、無損、高精度測量
- 易于設置條件和測量操作！ 任何人都可以輕松測量薄膜厚度
- 通過峰值巴雷法、頻率分析法、非線性*小二乘法、優化法等多種膜厚度測量
- 非線性*小二乘法的厚度分析算法允許光學常數分析（n：折射率、k：消光計數）
測量項目
- **反射率測量
- 薄膜厚度分析（10層）
- 光學常數分析（n：折射率，k：消光計數）
測量對象
-
功能膜、塑料
透明導電膜（ITO、銀納米線）、緩速膜、偏振膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合劑、粘合劑、保護膜、硬涂層、防指紋劑等。 -
半導體
化合物半導體、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、Sapphire 等。 -
表面處理
DLC 涂層、防銹劑、防霧劑等 -
光學材料
過濾器、AR 涂層等 -
FPD
LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有機膜、密封劑）等 -
其他
硬盤、磁帶、建筑材料等
原則
測量原理
Otsuka 電子采用光干涉法和內部制造的高精度分光光度計，可實現非接觸式、無損和高速高精度薄膜厚度測量。 光干涉法是一種利用光學系統獲得的反射率來確定光學厚度的方法，如圖2所示。該光學系統使用光譜光度計獲得光學厚度。 以涂覆在金屬基板上的膜為例，從目標樣品上方入射的光在膜表面反射（R1）。 此外，通過薄膜（R2）的光在基板（金屬）或膜界面反射。 測量由光路差引起的相位偏移引起的光干涉現象，并從獲得的反射光譜和折射率計算薄膜厚度的方法稱為光干涉法。 有四種分析方法：峰巴雷法、頻率分析法、非線性*小二乘法和優化法。
規格
手勢
| 測量波長范圍 | 300～800nm | |
|
測量膜厚度范圍 （SiO2轉換） |
3nm～35μm | |
| 點直徑 | φ1.2mm | |
| 樣本大小 | φ200×5(H)mm | |
| 測量時間 | 0.1~10s以內 | |
| 電源 | AC100V±10% 300VA | |
| 尺寸、重量 | 280（W)×570（D)×350（H）mm、24kg | |
| 其他 | 參考板，食譜創建服務 | |
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塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司代理、直營各日本品牌工業產品，聯系人：張小姐
聯系電話：15902189399
江蘇地區代理Otsuka大塚電子橢圓偏振光測量儀FE-300
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浙江地區代理Otsuka大塚電子橢圓偏振光測量儀FE-300
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