• *新的高靈敏度 APD 可提高靈敏度并縮短測(cè)量時(shí)間
• 通過自動(dòng)溫度梯度測(cè)量進(jìn)行變性/相變溫度分析
• 可在 0 至 90°C 的寬溫度范圍內(nèi)進(jìn)行測(cè)量
• 增加了廣泛的分子量測(cè)量和分析功能
• 支持懸浮高濃度樣品的顆粒直徑和Zeta電位測(cè)量
• 通過測(cè)量和繪圖分析，提供高精度的 Zeta 電位測(cè)量結(jié)果，用于測(cè)量單元中的電滲透流
• 支持高鹽濃度溶液的Zeta電位測(cè)量
• 支持小面積樣品的平板Zeta電位測(cè)量

它非常適合在界面化學(xué)、無(wú)機(jī)材料、半導(dǎo)體、聚合物、生物、制藥和醫(yī)學(xué)領(lǐng)域進(jìn)行基礎(chǔ)和應(yīng)用研究，不僅處理細(xì)顆粒，還處理薄膜和平板樣品的表面科學(xué)。

• 新型功能材料
  燃料電池相關(guān)（碳納米管、富勒烯、功能膜、催化劑、納米金屬）
  生物納米相關(guān)（納米膠囊、樹突、DDS、生物納米顆粒）、納米氣泡等
   
• 陶瓷和著色材料工業(yè)
  陶瓷（二氧化硅、氧化鋁、氧化鈦等）
  無(wú)機(jī)溶膠的表面改性、分散和聚合控制
  顏料（炭黑和有機(jī)顏料）的分散和聚合控制
  漿料樣品
  彩色濾光片
  懸浮礦物的收集材料吸附研究
   
• 半導(dǎo)體領(lǐng)域
  硅晶片表面異物附著的機(jī)理 闡明
  研磨劑、添加劑與晶圓表面相互作用的研究
  CMP漿料
   
• 聚合物和化學(xué)工業(yè)
  乳液（涂料和粘合劑）的分散和聚合控制、乳膠表面改性（醫(yī)藥和工業(yè)）
  聚合物電解質(zhì)（聚苯乙烯磺酸鹽、聚羧酸等）的功能研究、功能性納米顆粒
  造紙和紙漿造紙工藝控制以及紙漿添加劑研究
   
• 制藥和食品工業(yè)
  乳液（食品、香料、醫(yī)療和化妝品）的分散和聚集控制、蛋白質(zhì)功能
  

• 脂質(zhì)體和囊泡的分散和聚合控制、表面活性劑（云蘇）的功能

測(cè)量原理	顆粒大小		動(dòng)態(tài)光散射法（光子相關(guān)法）
	澤塔電位		電泳光散射法（激光多普勒法）
	分子量		靜態(tài)光散射方法
光學(xué)	顆粒大小		均入式光學(xué)系統(tǒng)
	澤塔電位		異質(zhì)光學(xué)
	分子量		均入式光學(xué)系統(tǒng)
光源	大功率半導(dǎo)體激光器
探測(cè)器	高靈敏度 APD
單元格	用于 Zeta 電位：標(biāo)準(zhǔn)電池、微量放電電池或厚電池
	粒徑/分子量：方形細(xì)胞
溫度	0 至 90°C（帶梯度功能）
電源	100V ± 10% 250VA
尺寸 （WDH）	380（W)×600（D)×210（H)
重量	22 kg

測(cè)量范圍

*1（Latex112nm：0.00001 至 10%，牛磺酸：~40%）