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光照射裝置
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點(diǎn)光源曝光
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變壓型電源供應(yīng)器
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超高壓短弧汞燈
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UV光洗凈
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UV曝光裝置
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uv固化裝置
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紫外可見(jiàn)光光度計(jì)
特點(diǎn)
只需一臺(tái)，輕松實(shí)現(xiàn)5檢體連續(xù)測(cè)量
低濃度到高濃度都可對(duì)應(yīng)
高速測(cè)量，標(biāo)準(zhǔn)時(shí)間1分鐘
搭載了簡(jiǎn)單的測(cè)量功能 (1鍵測(cè)量)
內(nèi)置非浸泡型的cell block，無(wú)分注夾雜物
搭載溫度梯度功能
測(cè)量范圍（理論值）
粒徑 0.6nm～10μm
濃度范圍 0.00001～40％
溫度范圍 0～90℃*
仕樣
*1 根據(jù)激光**基準(zhǔn) （JIS C6802）級(jí)別區(qū)分，本儀器的**級(jí)別為1級(jí)。
測(cè)量范例
型號(hào)
多檢體NANO粒徑測(cè)量系統(tǒng)
測(cè)量原理
動(dòng)態(tài)光散射法
光源
高出力半導(dǎo)體激光*1
檢出器
高感光度APD
連續(xù)測(cè)量
5檢體
測(cè)量范圍
0.6nm ～ 10μm
對(duì)應(yīng)濃度
0.00001 ～ 40% *2
溫度
0 ～ 90℃ （有溫度梯度功能） *3
規(guī)格
遵照 ISO 22412：2017
遵照J(rèn)IS Z 8828：2013
遵照J(rèn)IS Z 8826：2005
尺寸
W240 X D480 X H375 mm
重量
約18 kg
軟件
平均粒徑解析 （累積法解析）
粒度分布解析
（Marquardt法/NNLS/Contin法/Unimodal法）
粒度分布疊寫(xiě)
逆相關(guān)函數(shù)?殘差plot
粒徑monitor
粒徑顯示范圍 （0.1 ～ 106 nm）
分子量計(jì)算功能
*2 Latex120nm：0.00001 ～ 10％、牛黃膽酸：～40%
*3 標(biāo)準(zhǔn)glass cell的批量測(cè)量的情況。
一次性cell或連續(xù)測(cè)量時(shí)， 15 ～ 40℃ （不對(duì)應(yīng)溫度梯度）
2.如有必要,請(qǐng)您留下您的詳細(xì)聯(lián)系方式!
