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產品名稱：OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000
產品型號：FPAR-1000
產品廠商：OTSUKA大塚電子
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簡單介紹：

FPAR-1000 OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統從稀薄系到濃厚系，在廣泛的濃度區域中的粒子直徑測量 *適合分析膠體分散液和拉拉力的分散狀態。 OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000

詳情介紹：

OTSUKA大冢- 光纖光學動態光散射光度計FDLS-3000
OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統

從稀薄系到濃厚系，在廣泛的濃度區域中的粒子直徑測量
*適合分析膠體分散液和拉拉力的分散狀態。
特長：
OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000
從稀薄的溶液到濃厚溶液，可以測量在廣泛的濃度范圍內的高速、高精度的粒子徑、粒子直徑分布（粒徑、粒徑分布）。

在研究·質量管理的廣泛用途上使用微粒子特有的分散、凝集過程的功能等。

根據新開發的測量程序，對應于濃厚溶液中高精度的粒子直徑測量。

將樣本溫調、超聲波洗凈等所有必要的功能全部內置的A3尺寸的緊湊設計。

測定項目

粒子徑
	3 nm ～ 5000nm
	1 nm ～ 5000nm （高感度仕様）
	キュムラント平均粒子徑ヒストグラム平均粒子徑（D₅₀）（高感度仕様）
分布解析
	CONTIN法 MARQUARDT法 NNLS法 CUMULANT法

対応濃度範囲（標準ラテックス 204nm の場合）
	0.001 ～ 10 %
	濃厚系プローブ（標準） 0.01 ～ 10 %
	希薄系プローブ（オプション） 0.001 ～ 0.01 %

応用分野

色材工業における顔料?インクの分散?凝集制御?粒子徑管理。
セラミックススラリーの分散?凝集制御、分散剤効果
半導體分野の研磨粒子の粒子徑管理
高分子?化學工業におけるエマルジョン、ラテックスの分散凝集制御、粒子徑管理
醫薬品?食品エマルジョンの分散?凝集制御、リポソームなどの粒子徑管理
光觸媒（酸化チタン）粒子の分散狀態管理

仕　様

光源	半導體レーザー
検出器	光電子増倍管（フォトンカウンティング方式）
サンプル溫調範囲	10 ～ 70℃
溫調方式	電子式冷卻素子、ヒーター
プローブ洗浄方式	超音波洗浄
電源	AC100V ± 10%50/60Hz 300VA
寸法（WDH）	320（W)×507（D)×284（H)
重量	約 22 kg

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產品名稱：OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000