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量子效率測量系統QE-2000 / 2100

可以立即測量優良量子效率（優良量子產率）。與粉末，溶液，固體（薄膜）和薄膜樣品兼容。低雜散光多通道光譜檢測器大大減少了紫外線區域中的雜散光。另外，通過采用集成的半球單元，可以實現明亮的光學系統，并且通過利用此優勢的再激發熒光校正，可以執行高精度的測量。此外，QE-2100能夠測量量子效率的溫度依賴性，并支持從紫外到近紅外的寬波長范圍。　
線掃描膜厚儀[離線型]

該設備可以輕松地離線檢查面內膜厚不均，以進行膜的研發和質量控制的抽樣檢查。可以高速且高精度地測量整個表面。
彩色濾光片光譜特性測量裝置

它是FPD生產過程中所有檢查的理想選擇，例如濾色片光學性能檢查和玻璃基板薄膜厚度檢查。
參考測量儀RETS-100nx

它是一種相位差測量設備，可支持所有類型的膜，例如OLED偏振片，層壓相位差膜和帶IPS液晶相位差膜的偏振片。實現與超高Re.60000 nm兼容的高速，高精度測量。可以“非破壞性地不剝離”地測定膜的層疊狀態。此外，它配備了簡單的軟件和校正功能，可支持由于樣品重新定位而導致的未對準，從而實現了簡單而高度**的測量。
單元間隙檢查裝置RETS系列

支持從反射/透射型LCD填充電池到帶有彩色濾光片的空電池等各種電池
紫外線分光光度測量系統

“紫外光譜輻照度測量系統IL100”評估光源在紫外區域中的輻照度。 ?從分光光度計測量可高精度地測量照度? 從紫外線到可見光的測量波長范圍寬 ?可選擇適合于高斜入射特性等應用的照度頭·可用于生物系統評估中不可缺少的PFD測量它是一種即使在紫外線區域也可以實現高精度測量的設備。
紫外分光光度計

評估紫外線區域中光源的輻射度。 ? 通過分光輻射度測量可以高精度地測量亮度?支持紫外，可見光和紅外的寬波長測量范圍?可以進行光生物學 **性評估它是可以測量紫外線亮度的受限設備。
紫外光譜光分布測量系統

評估UV LED的光分布特性。 ?根據輻射強度/輻照度評估光分布 ?通過光譜光分布評估每個波長的輻射強度可視化**和樹脂固化光源的不均勻輻射。
紫外線光譜總輻射通量測量系統

評估UV LED的輻射通量。 ?高性能紫外線LED的輸出評估? 結合溫度控制單元的溫度評估支持 UV-LED的光學特性評估，該技術有望進行**，純化和樹脂固化。
兼容裝載口的膜厚測量系統GS-300

它是一種具有圖案匹配功能且XY定位精度為2um或更小的系統。
高速相位差測量儀RE-200

高精度控制光軸！3σ≤0.02°用于低延遲測量
線掃描膜厚儀[在線型]

它是一種可以在薄膜生產現場在線測量薄膜厚度的裝置。通過將原來的光譜干涉法與*新開發的高精度膜厚計算處理技術相結合，可以以至少測量間隔至少測量500 mm寬度的膜的膜厚（使用一個單元時）。 0.01秒
總光通量測量系統HM / FM系列

它可以測量從LED到照明的各種光源的總光通量。 ?積分球+分光鏡支持從總光通量到顏色測量的廣泛范圍 ·通過控制光源的加熱/冷卻可以評估溫度特性 ·系統可以共同控制DC / AC電源。麻煩的操作所需的測量精度是高集成度的半球，樣本集易于測量的瓦特級大功率激光源相應的測量系統從多年的經驗可以對應任何場景的總光通量測量，滿足了需求。
光譜分布測量系統GP系列

一種測量照明設備的配光特性的設備。 ?使用內部開發的分光鏡可以實現高精度的測量！ -可以與配光數據一起測量顏色！- 即使在光譜測量中，也可以實現相當于照度計的高速測量！ ?根據配光測量結果可以進行照明率分析！!! -符合標準的測量系統！ ?也可以由測量基準部門提供技術支持！該設備可處理從室內照明到泛光燈的各種照明設備，并滿足多種用途的需求。
超快光譜干涉型測厚儀

它以超高速，實時，高精度的晶片和樹脂非接觸方式測量晶片等的研磨和拋光過程。
光譜橢偏儀FE-5000 / 5000S

除了可以進行高精度薄膜分析的橢圓偏振光譜儀之外，我們還通過實現自動可變測量機制來支持所有類型的薄膜。除了常規的旋轉光子檢測器方法之外，通過為延遲板提供自動連接/分離機制，還提高了測量精度。

蘇公網安備 32050502000409號