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MA-60F日本MIKASA米卡薩光刻機 - MaskAligner

日期：2025-09-22 10:35

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摘要：MA-60F日本MIKASA米卡薩光刻機 - MaskAligner

■ MA-60F日本MIKASA米卡薩光刻機 - MaskAligner特點■ 手動操作、接觸式對準曝光機。■ 依照不同需求以及成本考量?有準直儀型?多面鏡型?整合（積算器）型三種曝光光源。■ 有可對應5×5mm~100×100mm以及1 inch~6 inch的基板的各類機種。■ Mask Holder?載臺的更換作業簡單易行，可在1分鐘內完成，適合用于研究開發。■ 對準顯微鏡的對物鏡可對應高對準精度或厚膜等用途，并且有4×、10×、20×三種。

■ MA-60F日本MIKASA米卡薩光刻機 - MaskAligner共通規格接觸方法軟性接觸/ 硬性接觸（部分選配）對準精度使用對物鏡20×時<1.2μm（M-1S除外）對準顯微鏡雙視野顯微鏡對物鏡間隔18~60mm（M-1S除外）曝光波長多頻率（h.i.g線）

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